Вольфрамовый лист 9х220х2000 мм В-МП в Перми

Соответствие удельного электрического сопротивления вольфрамового листа техническим условиям определяется путем измерения сопротивления на образцах. Часто используется четырехзондовый метод, позволяющий получить точные данные без влияния контактного сопротивления, согласно соответствующим методикам контроля.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.

Толщина 0.05 мм оптимальна для фольги, используемой в качестве источника для вакуумного испарения. Тонкий лист обеспечивает быстрый и равномерный нагрев, эффективное испарение вольфрама для создания тонких пленок, а также минимальную термическую инерцию системы.

Для длительной работы листа ВД в инертной среде, например, аргоне или водороде, оптимальны температуры до 2500°С. В этих условиях вольфрам сохраняет свои механические свойства, не подвергаясь значительному окислению или испарению.

Лист ВД используется в химической промышленности для элементов реакторов, работающих в высокотемпературных и агрессивных средах. Он обеспечивает исключительную коррозионную стойкость и химическую инертность для компонентов, контактирующих с расплавленными металлами, галогенами или газами.

Скорость коррозии вольфрамового листа в паре воды при 150°С относительно низка. Однако происходит медленное окисление с образованием тонкой пленки оксида вольфрама и выделением водорода. При более высоких температурах процесс ускоряется.

Точная плотность вольфрамового листа ВД при 25°С составляет приблизительно 19.25 г/см³. Это одна из самых высоких плотностей среди всех металлов, что обеспечивает его высокую эффективность в экранировании излучения и как материал с большой массой на единицу объема.